中文(wen)臺(tai)式(shi)矽(gui)酸根分(fen)析(xi)儀是用(yong)於測(ce)量(liang)水溶液中的矽(gui)酸根離子(zi)濃(nong)度(du)的實驗(yan)室分(fen)析(xi)測量(liang)儀表(biao)。它(ta)適(shi)用(yong)於火力(li)發(fa)電廠對(dui)化學(xue)補(bu)給(gei)水、給(gei)水、爐(lu)水、蒸(zheng)汽和凝結(jie)水等(deng)系統(tong)，進(jin)行現場(chang)二氧(yang)化(hua)矽(gui)的分(fen)析(xi)監測(ce)和控(kong)制，儀表(biao)能(neng)自動計(ji)算(suan)出本(ben)底(di)矽(gui)，無(wu)需要(yao)人為(wei)添加，消除(chu)本(ben)底(di)矽(gui)對(dui)測量(liang)結(jie)果(guo)的影(ying)響(xiang)。

產品簡(jian)介

中文(wen)臺(tai)式(shi)矽(gui)酸根分(fen)析(xi)儀是用(yong)於測(ce)量(liang)水溶液中的矽(gui)酸根離子(zi)濃(nong)度(du)的實驗(yan)室分(fen)析(xi)測量(liang)儀表(biao)。它(ta)適(shi)用(yong)於火力(li)發(fa)電廠對(dui)化學(xue)補(bu)給(gei)水、給(gei)水、爐(lu)水、蒸(zheng)汽和凝結(jie)水等(deng)系統(tong)，進(jin)行現場(chang)二氧(yang)化(hua)矽(gui)的分(fen)析(xi)監測(ce)和控(kong)制，儀表(biao)能(neng)自動計(ji)算(suan)出本(ben)底(di)矽(gui)，無(wu)需要(yao)人為(wei)添加，消除(chu)本(ben)底(di)矽(gui)對(dui)測量(liang)結(jie)果(guo)的影(ying)響(xiang)。

技術(shu)參數：

測(ce)量範(fan)圍(wei)：0～200µg/L

顯       示(shi)：觸摸(mo)屏顯(xian)示(shi) 中文(wen)菜(cai)單(dan)

基(ji)本(ben)誤差(cha)：±2%FS  

分(fen)辨力(li)：0.1µg/L  

重(zhong)  復(fu)  性(xing)：1%  

穩  定  性：±1%FS/4h  

環境(jing)溫(wen)度(du)：(5～45)℃  

環境(jing)濕(shi)度(du)：≤90%RH（無(wu)冷凝）  

外形尺(chi)寸(cun)：392mm×260mm×100mm(長(chang)×寬(kuan)×)  

電      源：AC（85～265）V，頻(pin)率(lv)（45～65）Hz  

功(gong)     率(lv)：40W  

重(zhong)     量：5kg

中文(wen)臺(tai)式(shi)矽(gui)酸根分(fen)析(xi)儀維護(hu)保(bao)養及(ji)註(zhu)意事項(xiang)：

1.開電源前(qian)，應(ying)檢查(zha)電源是否連(lian)接好。

2.若顯示(shi)的濃(nong)度(du)值(zhi)不(bu)正常(chang)，應(ying)檢查(zha)水樣(yang)是否充滿(man)，是否有汙(wu)染(ran)，排(pai)除(chu)掉(diao)以上因素後，仍不能工(gong)作(zuo)，則(ze)應找(zhao)廠家修理(li)或咨詢。

3.每(mei)次測(ce)量分(fen)兩次註(zhu)入被測水樣(yang)，並以第(di)二次顯(xian)示(shi)數值(zhi)為(wei)準(zhun)。

4.每(mei)次測(ce)量完成(cheng)後，應註入除(chu)鹽(yan)水，不(bu)排(pai)掉。 

5.儀表(biao)使(shi)用(yong)後應進行清洗，可用(yong)5%的鹽(yan)酸(suan)溶液泡，再(zai)使用(yong)純水沖洗(xi)幹(gan)凈(jing)。

6.建(jian)議(yi)儀表(biao)每(mei)月(yue)進行兩點(dian)標定壹次。

7.排(pai)汙不排不(bu)完(wan)液體(ti)時，可(ke)多(duo)按排汙鍵壹次，或(huo)用(yong)洗耳球吹吸(xi)管(guan)路(lu)，直至液體(ti)正常(chang)流通(tong)。